説明
光線追跡を用いた光源、レンズ、鏡、プリズム、ファイバ、回折素子、MEMSのシステム解析。Zemax®の基礎、開口、非球面、非順序トレース、像差、画像指標、最適化／評価関数。応用：イメージング、照明、レーザ。トレードオフ、機械的制約、公差およびコスト。ビーム伝搬の物理光学モデリング。近接場回折および導波路。
前提条件
- 前提科目: OSS 1003。
条件および詳細
- 追加の単位取得を認めない科目：PLT 3004（現在は開講されていない）。
- 前提科目: OSS 1003。
- 講義 週2時間、チュートリアル／実験 週3時間。
原語による参照テキスト
Optical ray-tracing for analysing systems of sources, lenses, mirrors, prisms, fibers, diffractive elements, MEMS. Zemax® fundamentals, pupils, aspherics, non-sequential tracing, aberrations, image metrics, optimization/merit functions. Applications: imaging, illumination, lasers. Trade-offs, mechanical constraints, tolerances and cost. Physical optics modeling of bean propagation. Near-field diffraction and waveguides.
- Prerequisite(s): OSS 1003 .
- Precludes additional credit for Precludes additional credit for PLT 3004 (no longer offered).
- Lectures two hours a week, tutorial/laboratory three hours a week.
出典と参照
日付と出典は、情報を確認する際の参考のために保持されています。翻訳は読みやすくするための提案であり、条件や要件については公式の出典が基準となります。
出典の参照 : https://calendar.carleton.ca/undergrad/courses/OSS/