Descripción
Trazado de rayos ópticos para analizar sistemas de fuentes, lentes, espejos, prismas, fibras, elementos difractivos, MEMS. Fundamentos de Zemax®, pupilas, asféricos, trazado no secuencial, aberraciones, métricas de imagen, optimización/funciones de mérito. Aplicaciones: imagen, iluminación, láseres. Compensaciones, restricciones mecánicas, tolerancias y costo. Modelado de óptica física de la propagación de haces. Difracción en campo cercano y guías de onda.
Prerrequisitos
- Requisito(s): OSS 1003.
Condiciones y modalidades
- Impide obtener crédito adicional por Impide obtener crédito adicional por PLT 3004 (ya no se ofrece).
- Requisito(s): OSS 1003.
- Clases magistrales dos horas por semana, tutorial/laboratorio tres horas por semana.
Texto de referencia en su idioma de origen
Optical ray-tracing for analysing systems of sources, lenses, mirrors, prisms, fibers, diffractive elements, MEMS. Zemax® fundamentals, pupils, aspherics, non-sequential tracing, aberrations, image metrics, optimization/merit functions. Applications: imaging, illumination, lasers. Trade-offs, mechanical constraints, tolerances and cost. Physical optics modeling of bean propagation. Near-field diffraction and waveguides.
- Prerequisite(s): OSS 1003 .
- Precludes additional credit for Precludes additional credit for PLT 3004 (no longer offered).
- Lectures two hours a week, tutorial/laboratory three hours a week.
Fuentes y referencias
Se conservan las fechas y las fuentes para ayudarle a verificar la información. Las traducciones se proponen para facilitar la lectura; la fuente oficial es la referencia para las condiciones y los requisitos.
Referencia de la fuente : https://calendar.carleton.ca/undergrad/courses/OSS/